智東西 來源：芯東西 作者：溫淑
看點(diǎn)：這家廠商扼住了全球5nm芯片的命脈，iPhone 12沒它不行！
現(xiàn)在，5nm制程芯片作為目前可量產(chǎn)的最先進(jìn)芯片，將是頂級手機(jī)的標(biāo)配，也是摩爾定律真正的捍衛(wèi)者。年內(nèi)將推出的華為Mate 40采用的麒麟1020芯片、蘋果iPhone 12搭載的A14仿生芯片不出意外，都會采用5nm制程。
不少證據(jù)正在證實(shí)這一點(diǎn)，3月份，有爆料稱臺積電成功流片麒麟1020；4月份，臺積電宣布為蘋果代工A14芯片；在近期的中美貿(mào)易摩擦中，臺積電是否能按時向華為出貨Mate 40芯片也著實(shí)讓人捏了一把汗。這一連串事件之中，為兩大手機(jī)龍頭代工芯片的臺積電成為關(guān)鍵角色，舉足之間關(guān)系著華為手機(jī)芯片供應(yīng)的命運(yùn)。
然而，臺積電能吃下蘋果、華為的5nm訂單，背后還少不了一家荷蘭廠商的存在：芯片制造要想突破10nm以下節(jié)點(diǎn)，必須要用到EUV（極紫外線）光刻技術(shù)，而EUV光刻機(jī)只有荷蘭公司阿斯麥（ASML）能造。不論是5nm量產(chǎn)賽道第一名臺積電，還是第二名三星，想造出產(chǎn)品，就只能先乖乖向阿斯麥訂貨。
作為全球5nm產(chǎn)線不可或缺的狠角色，阿斯麥到底是一家什么樣的公司？
我們不妨先理解“光刻”這項(xiàng)技術(shù)的重要性。如果把芯片比作刻版畫。芯片生產(chǎn)的過程就是在硅襯底這張“紙”上，先涂上一層名為光刻膠的“油墨”，再用光線作“筆”，在硅襯底上“拓”出需要的圖案，然后用化學(xué)物質(zhì)做“刻刀”，把圖案雕刻出來。
其中，以光線為“筆”、拓印圖案這一步被稱為光刻。在芯片制造幾百道工序里，光刻是芯片生產(chǎn)中最重要的步驟之一。圖案線條的粗細(xì)程度直接影響后續(xù)的雕刻步驟。目前市場上主流的光刻技術(shù)是DUV（深紫外線）技術(shù)，最先進(jìn)的則是EUV技術(shù)。
完成這一步需要用到的設(shè)備——光刻機(jī)，一臺售價從數(shù)千萬美元高至過億美元。要知道，美國最先進(jìn)的第五代戰(zhàn)機(jī)F-35閃電II式的售價還不到8000萬美元。
放眼全球，光刻機(jī)市場幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。
在這3家中，阿斯麥又是當(dāng)之無愧的一哥。據(jù)中銀國際報(bào)告，阿斯麥全球市場市占率高達(dá)89%！其余兩家的份額分別是8%和3%，加起來僅有11%。在EUV光刻機(jī)市場中，阿斯麥的市占率則是100%。
要指出的是，阿斯麥并非生來就含著金湯匙。阿斯麥成立于1984年，入局光刻機(jī)市場晚于尼康（1917年成立，1980年發(fā)售其首款半導(dǎo)體光刻機(jī)）和佳能（1937年成立，1970年推出日本首臺半導(dǎo)體光刻機(jī)）。成立之初，阿斯麥只有31名員工，還曾面臨資金鏈斷裂的窘境。
36年間，這家?guī)捉飘a(chǎn)的小公司是怎樣成長為光刻機(jī)一哥的？又是如何在十多年里占據(jù)第一寶座屹立不倒的？今天，智東西就來復(fù)盤這家荷蘭光刻機(jī)之星的逆襲之路。
更為重要的一點(diǎn)，在美國狙擊華為芯片供應(yīng)的組合拳里，阿斯麥間接或直接地成為一顆關(guān)鍵棋子，美國人憑什么限制阿斯麥的生意，背后又有怎樣的淵源？
01
光刻機(jī)市場的傳說，全球5nm產(chǎn)線的唯一選擇
在郁金香國度荷蘭的南部，坐落著一個居民人數(shù)20余萬的市鎮(zhèn)，艾恩德霍芬，阿斯麥（Advanced Semiconductor Material Lithography，直譯：先進(jìn)半導(dǎo)體材料光刻技術(shù)）總部就位于此。
阿斯麥?zhǔn)且患也捎谩盁o工廠模式”的光刻設(shè)備生產(chǎn)商，主要產(chǎn)品就是光刻機(jī)，還提供服務(wù)于光刻系統(tǒng)的計(jì)量和檢測設(shè)備、管理系統(tǒng)等。
翻開全球芯片廠商的光刻機(jī)訂貨單，其中絕大多數(shù)都發(fā)給了阿斯麥。以2019年為例，阿斯麥共出貨229臺光刻機(jī)，凈銷售額為118.2億歐元，凈利潤為25.2億歐元。相比之下，尼康出貨46臺，佳能出貨84臺。
除了出貨量占優(yōu)，阿斯麥（ASML）也代表著全球最頂尖的光刻技術(shù)。在阿斯麥2019年賣出的229臺光刻機(jī)中，有26臺是當(dāng)今最高端的EUV（極紫外線）光刻機(jī)。而在EUV光刻市場，阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ坏耐婕摇?/span>
EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有阿斯麥的EUV光刻機(jī)，芯片巨頭臺積電、三星、英特爾的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。
時間邁進(jìn)2020，光刻機(jī)市場三分的格局中，阿斯麥已穩(wěn)居第一10多年。在“光刻機(jī)一哥”光環(huán)的背后，阿斯麥又有怎樣的故事？
智東西從技術(shù)路線選擇、先進(jìn)技術(shù)攻關(guān)、資金支持、研發(fā)投入等方面入手，還原出這個故事真實(shí)、立體的脈絡(luò)。
02
與臺積電鬼才相互成就，21世紀(jì)阿斯麥冉冉升起
羅馬不是一天建成的，阿斯麥的成功也絕非一蹴而就。今日風(fēng)頭無兩的光刻機(jī)市場一哥背后，是一個卑微的開始和一段曲折的往事。
故事要從20世紀(jì)80年代講起，那時候距離摩爾定律被正式提出（1975年）不到10年，增加芯片晶體管數(shù)目還不是讓全球半導(dǎo)體學(xué)者擠破頭的課題。相應(yīng)地，對光刻機(jī)光源波長的要求較低。當(dāng)時的光刻機(jī)采用干式微影技術(shù)，簡言之，光源發(fā)光，光線在涂有光刻膠的硅基底上“畫”就完了。
比如，1980年尼康推出的可商用步進(jìn)式重復(fù)式光刻機(jī)（Stepper），光源波長為1微米。連芯片廠家英特爾也自己設(shè)了個光刻機(jī)部門，用買來的零件組裝光刻機(jī)。
通俗來說，步進(jìn)式重復(fù)光刻機(jī)的工作原理是使涂有光刻膠的硅片與掩膜板對準(zhǔn)并聚焦，通過一次性投影，在晶圓片上刻畫電路。
在這種背景下，荷蘭電子產(chǎn)品公司飛利浦在實(shí)驗(yàn)室鼓搗出了步進(jìn)式掃描光刻技術(shù)的雛型，但拿不準(zhǔn)這項(xiàng)技術(shù)的商業(yè)價值。思前想后，它決定拉人入伙，讓合作者繼續(xù)研發(fā)，這樣既有人分?jǐn)偝杀荆步o了自己觀望的機(jī)會。
步進(jìn)式掃描光刻技術(shù)的原理是，光線透過掩膜板上的狹縫照射，晶圓與掩膜板相對移動。完成當(dāng)前掃描后，晶圓由工作臺承載，步進(jìn)至下一步掃描位置，進(jìn)行重復(fù)曝光。整個過程經(jīng)過重復(fù)步進(jìn)、多次掃描曝光。
在飛利浦的設(shè)想里，理想的合伙人當(dāng)然是技術(shù)先進(jìn)、實(shí)力雄厚的美國大廠，如IBM、GCA之流。但在美國走了一圈后，飛利浦意識到了現(xiàn)實(shí)的骨感：各大廠商紛紛表示拒絕。
但是，并非所有人都不看好飛利浦的光刻項(xiàng)目，就在飛利浦碰壁之際，荷蘭小公司ASMI（ASM International，直譯為ASM國際）的老板Arthur Del Prado跑來，自薦要接下飛利浦的光刻項(xiàng)目。
ASM International創(chuàng)立于1964年，是一家半導(dǎo)體設(shè)備代理商，對制造光刻機(jī)并無經(jīng)驗(yàn)。因此，飛利浦猶豫了1年的時間。最終，1984年，飛利浦選擇“屈就”，同意與ASMI公司各自出資210萬美元，合資成立阿斯麥，由這才開啟了阿斯麥的故事。
阿斯麥?zhǔn)兹蜟EO為Gjalt Smit，任職時間為1984～1988年。據(jù)稱，由于阿斯麥成立初期知名度較低，Gjalt Smit曾在未經(jīng)授權(quán)的情況下在阿斯麥招聘廣告中使用飛利浦的標(biāo)志。
2013年至今，阿斯麥總裁兼CEO由Peter Wennink擔(dān)任。Peter Wennink早在1999年就加入了阿斯麥，曾擔(dān)任過執(zhí)行副總裁、首席財(cái)務(wù)官等職。在加入阿斯麥之前，Peter就職于全球四大會計(jì)師事務(wù)所之一的德勤會計(jì)師事務(wù)所。
其實(shí)，在與飛利浦合資成立阿斯麥之前約10年的1975年，ASMI就曾在香港開設(shè)辦公室。最初，ASMI香港辦公室只負(fù)責(zé)銷售，隨著時間推移，該辦公室發(fā)展出了生產(chǎn)能力。1988年，ASMI在香港辦公室的基礎(chǔ)上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直譯為ASM太平洋技術(shù)）。到今天，ASMPT已成長為全球最大的半導(dǎo)體組裝和封裝技術(shù)供應(yīng)商之一。
作為站在阿斯麥、ASMI、ASMPT背后的操盤手，Arthur Del Prado成為一代業(yè)界傳奇，被譽(yù)為“歐洲半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)之父”。2016年，這位傳奇人物以85歲高齡逝世，但與他淵源頗深的三家半導(dǎo)體公司仍在創(chuàng)造新故事。Arthur的長子Chuck Del Prado，于2008年接替Arthur繼任為ASMI CEO，并于2019年退休。ASMI現(xiàn)任CEO是Benjamin Loh。ASMPT現(xiàn)任CEO是Robin Ng。
回到阿斯麥的故事，飛利浦同意出資210萬美元成立阿斯麥，但拒絕提供更多資金和辦公場地。成立之初的阿斯麥只有31名員工，由于沒有辦公室，這31名員工就窩在飛利浦大廈外的簡易木板房里辦公。當(dāng)時，飛利浦絕不會想到，這個幾乎被當(dāng)作“棄子”的項(xiàng)目和退而求其次選擇的小公司，孕育出的是能把尼康拉下馬的光刻機(jī)新星。
如前所說，20世紀(jì)80年代還是光刻機(jī)的技術(shù)紅利期。在干式微影技術(shù)的技術(shù)路線下，阿斯麥成立的第一年就造出了步進(jìn)式掃描光刻機(jī)PAS 2000。但是，技術(shù)的紅利期很快就會過去，之后發(fā)生的一切會造就光刻機(jī)市場的新格局。
進(jìn)入21世紀(jì)，為了延續(xù)摩爾定律，人們改進(jìn)了晶體管架構(gòu)方式，但光刻機(jī)光源波長卡在了193nm上。這造成的后果是光刻“畫”出的線條不夠細(xì)致，阻礙晶體管架構(gòu)的實(shí)現(xiàn)。要解決這個問題，最直接的方式就是把光源波長縮短，比如尼康、SVG等廠商試圖采用157nm波長的光線。
實(shí)踐中，實(shí)現(xiàn)157nm波長的光刻機(jī)并不容易。首先，157nm波長的光線極易被193nm光刻機(jī)使用的鏡片吸收；其次，光刻膠也要重新研發(fā)；另外，相比于193nm波長，157nm波長進(jìn)步不到25%，回報(bào)率較低。但在當(dāng)時，這似乎是唯一的辦法。
到了2002年，時任臺積電研發(fā)副經(jīng)理林本堅(jiān)提出：為什么非要改變波長？在鏡頭和光刻膠之間加一層光線折射率更好的介質(zhì)不就行了？那么什么介質(zhì)能增加光的折射率呢？林本堅(jiān)說，水就可以。與干式光刻技術(shù)相對，林本堅(jiān)的技術(shù)方案被稱為浸沒式光刻技術(shù)。經(jīng)過水的折射，光線波長可以由193nm變?yōu)?32nm。
時間再往回推15年（1987年），林本堅(jiān)就職于IBM，那時他就有了浸沒式光刻技術(shù)的想法。2002年芯片制程卡在65nm之際，林本堅(jiān)看到了浸沒式光刻技術(shù)的機(jī)會。為了解決技術(shù)難題、消除廠商疑慮，林本堅(jiān)花費(fèi)半年時間帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)發(fā)表3篇論文。
當(dāng)時，業(yè)界質(zhì)疑水作為一種清潔劑，會把鏡頭上的臟東西洗出來，還有人擔(dān)憂水中的氣泡、光線明暗等因素會影響折射效果。根據(jù)林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)的研究，他們提出了一種曝光機(jī)，可以保持水的潔凈度和溫度，使水不起氣泡。雖然這種曝光機(jī)并未在實(shí)際中被采用，但林本堅(jiān)的研究證明了技術(shù)上的難題是可以被解決的。
他還親自奔赴美國、日本、德國、荷蘭等地，向光刻機(jī)廠商介紹浸沒式光刻的想法。但是，有能力進(jìn)行研發(fā)的大廠普遍不買賬。
個中原因也不難理解，自20世紀(jì)60年代起，玩家入局光刻機(jī)市場，在干式光刻技術(shù)上投入了大量財(cái)力、人力、物力，好不容易踏出一條可行的技術(shù)路線。如果按照林本堅(jiān)“加水”的想法，各位前輩就得“一夜回到解放前”，從技術(shù)到設(shè)備重新探索。很少有人舍得這么高的沉沒成本。但是，“很少有人”不代表“沒有人”。
奔波到荷蘭后，林本堅(jiān)終于聽到了一個好消息：阿斯麥愿做這第一個吃螃蟹的勇士。2003年10月份，ASML和臺積電研發(fā)出首臺浸沒式光刻設(shè)備——TWINSCAN XT：1150i。2004年，阿斯麥的浸沒式光刻機(jī)改進(jìn)成熟。同年，尼康宣布了157nm的干式光刻機(jī)和電子束投射產(chǎn)品樣機(jī)。
但是，一面是改進(jìn)成熟的132nm波長新技術(shù)，一面是157nm波長的樣機(jī)，勝負(fù)不言而喻。
數(shù)據(jù)顯示，在2000年之前的16年里，ASML占據(jù)的市場份額不足10%。2000年后，阿斯麥?zhǔn)袌龇蓊~不斷攀升。到2007年，阿斯麥?zhǔn)袌龇蓊~已經(jīng)超過尼康，達(dá)到約60%。
當(dāng)命運(yùn)之神把浸沒式光刻微影的機(jī)遇擺放到阿斯麥、尼康等玩家面前，只有阿斯麥勇敢地伸出手，而尼康則是成也干式微影、敗也干式微影。在全球光刻機(jī)市場這一回合的較量中，阿斯麥選擇了正確的技術(shù)路線，從而贏得了后來居上的機(jī)會。
03
集合美國、歐洲科研力量，點(diǎn)亮EUV科技樹
如果說推出浸沒式光刻機(jī)讓阿斯麥領(lǐng)先尼康一步，那么突破EUV光刻技術(shù)則讓它成為了名副其實(shí)的光刻機(jī)一哥。2010年至今，EUV光刻市場中只有阿斯麥一位玩家。
突破10nm節(jié)點(diǎn)能夠帶來的經(jīng)濟(jì)效益不必贅述，在眾多玩家中，為什么只有阿斯麥掌握了EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)？實(shí)際上，這與它集合了美國、歐洲的頂級科研力量有關(guān)。這段故事還要從1997年講起。
1997年，英特爾認(rèn)識到跨越193nm波長的困難，渴望通過EUV來另辟蹊徑。為了能從其他玩家處借力，英特爾說服了美國政府，二者一起組建了一個名為“EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，極紫外線有限責(zé)任公司）”的組織。EUV LLC里可謂是群英薈萃，商業(yè)力量有摩托羅拉、AMD、英特爾等，還匯集了美國三大國家實(shí)驗(yàn)室。
EUV LLC里，美國成員構(gòu)成了主體。在對外國成員的選擇上，英特爾和白宮產(chǎn)生了分歧。英特爾看中阿斯麥和尼康在光刻機(jī)領(lǐng)域的經(jīng)驗(yàn)，想拉他們?nèi)牖�。但白宮認(rèn)為如此重要的先進(jìn)技術(shù)研發(fā)不該邀“外人”入局。
此時，阿斯麥顯示出了驚人的前瞻能力，它向美國表示：我愿意出資在美國建工廠和研發(fā)中心，并保證55%的原材料都從美國采購，只求你們研究EUV一定要帶我玩。
如此誠意讓美國難以拒絕，就這樣，阿斯麥成為EUV LLC里唯二的兩家非美國公司之一，另一家是德國公司英飛凌。
反觀尼康，這一次則完全是吃了國籍的虧。1998年發(fā)表的文件《合作研發(fā)協(xié)議和半導(dǎo)體技術(shù)：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，寫明了尼康被排除在EUV LLC外的終極原因：“……有人擔(dān)心尼康會成功將技術(shù)轉(zhuǎn)移到日本，從而消滅美國的光刻工業(yè)�！�
1997年到～2003年，阿斯麥和世界頂級的半導(dǎo)體領(lǐng)域玩家聚集在EUV LLC，用了6年時間回答一個問題：EUV有可能實(shí)現(xiàn)嗎？他們發(fā)現(xiàn)答案是肯定的。至此，EUV LLC使命完成，在2003年就地解散，其中各個成員踏上獨(dú)自研發(fā)之路。
其實(shí)，其他歐洲、日本、韓國的玩家也曾探索過EUV光刻技術(shù)。但是，他們的實(shí)力始終無法與匯集了美國頂級科研實(shí)力的EUV LLC相比，這意味著阿斯麥在EUV研發(fā)之路上占得先機(jī)。國際光電工程學(xué)會（SPIE）官網(wǎng)寫出了EUV LLC的重要性：“如果不是EUV LLC對技術(shù)的形成和追求，EUV光刻技術(shù)就不會成為IC制造領(lǐng)域的未來競爭者�！�
6年時間里，EUV LLC證明了用極紫外線作為光源造光刻機(jī)是可行的，但卻沒指出一條明路。到了2005年，EUV光刻機(jī)還是連個影子都沒有，但巨額的研發(fā)資金、難以跨越的技術(shù)瓶頸已經(jīng)足以讓大多數(shù)玩家望而卻步。但是，阿斯麥還是不肯死心，并且決定要牽頭歐洲的EUV研發(fā)項(xiàng)目。如果說在EUV LLC中，阿斯麥?zhǔn)球榭s在角落里等待被其他大玩家“帶飛”，那這一次，阿斯麥則是要自己做領(lǐng)頭雁。
研發(fā)過程面臨的困難無非集中在資金和技術(shù)兩方面，阿斯麥把它們逐個擊破。缺錢？那就去找，阿斯麥從歐盟第六框架研發(fā)計(jì)劃中拉來2325萬歐元經(jīng)費(fèi)。缺技術(shù)？阿斯麥集合3所大學(xué)、10個研究所、15個公司聯(lián)合開展了“More Moore”項(xiàng)目，著力攻堅(jiān)。
終于，2010年，阿斯麥出貨了首臺EUV光刻機(jī)。這臺光刻機(jī)型號為NXE：3100，被交付給臺積電，用于進(jìn)行研發(fā)。
至此，在EUV市場，阿斯麥已經(jīng)做到了人無我有，接下來的問題就是產(chǎn)品的迭代和進(jìn)化。2013年，阿斯麥?zhǔn)召徚斯庠刺峁┥藽ymer，為公司量產(chǎn)EUV設(shè)備打基礎(chǔ)。經(jīng)過幾次升級，阿斯麥在2016年推出首臺可量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)NXE：3400B并獲得訂單。NXE：3400B售價約為1.2億美元，從2017年第二季度起開始出貨。直到今天，產(chǎn)品的迭代還在繼續(xù)。根據(jù)阿斯麥的信息，EXE：5000系列光刻機(jī)樣機(jī)最快在2021年問世。
從1997年到2010年，13年的艱難求索，終于讓阿斯麥攻克了EUV的技術(shù)高地。辛勤付出終有回報(bào)，目前，阿斯麥仍是唯一掌握EUV光刻技術(shù)的廠商。
04
沒錢？邀臺積電、英特爾、三星入股，拉回53億歐元
根據(jù)公開信息，一臺EUV光刻機(jī)售價約為1.2億美元，一臺DUV光刻機(jī)的售價也要數(shù)千萬美元。在高額售價的背后，是前期研發(fā)階段巨量的資金投入。要支撐對光刻技術(shù)的研發(fā)，阿斯麥必須找到一條可持續(xù)的“財(cái)路”，否則就可能陷入困境。
事實(shí)上，阿斯麥也的確經(jīng)歷過“財(cái)政危機(jī)”。1988年，阿斯麥進(jìn)軍臺灣市場，還未來得及在新的市場競爭中喘口氣，老東家ASMI就因無法獲得預(yù)期內(nèi)的回報(bào)比作出撤資決定。同時，由于當(dāng)時全球電子行業(yè)市場不樂觀，飛利浦也宣布了一項(xiàng)成本削減計(jì)劃。內(nèi)外夾擊之下，阿斯麥幾近破產(chǎn)。好在危機(jī)時刻，時任阿斯麥CEO Gjalt Smit聯(lián)系了飛利浦董事會成員Henk Bodt，后者說服了飛利浦董事會，為阿斯麥拉來一筆約1億美元的“救命錢”。
這筆資金幫助阿斯麥在進(jìn)軍臺灣市場的初期站穩(wěn)了腳。隨后幾年，阿斯麥憑借步進(jìn)式掃描光刻機(jī)扭虧為盈，并于1995年3月15日在阿姆斯特丹和紐約證券交易所成功上市，上市首日市值為約1.25億美元。
為了能夠獲得充足的資金支持，2012年，阿斯麥提出一項(xiàng)“客戶聯(lián)合投資計(jì)劃”（CCIP，Customer Co-Investment Program），簡單來說，就是接受客戶的注資，客戶成為股東的同時擁有優(yōu)先訂貨權(quán)。這無疑是一個雙贏的舉措：把阿斯麥的研發(fā)資金壓力轉(zhuǎn)移出去，讓客戶為先進(jìn)光刻技術(shù)的研發(fā)買單，這樣不僅使阿斯麥無后顧之憂地進(jìn)行研發(fā)，也保證了客戶對先進(jìn)光刻技術(shù)的優(yōu)先使用權(quán)。
2012年，芯片制造行業(yè)3大龍頭英特爾、臺積電、三星都推出了22nm芯片產(chǎn)品。CCIP計(jì)劃一經(jīng)推出，這3家公司紛紛響應(yīng)。根據(jù)協(xié)議，英特爾斥資41億美元收購荷蘭芯片設(shè)備制造商阿斯麥公司的15%股權(quán)，另出資10億美元，支持阿斯麥加快開發(fā)成本高昂的芯片制造科技。臺積電投資8.38億歐元，獲取阿斯麥公司約5%股權(quán)。三星斥資5.03億歐元購得3%股權(quán)，并額外注資2.75億歐元合作研發(fā)新技術(shù)。
最終，阿斯麥以23%的股權(quán)共籌得53億歐元資金。要知道，2012年全年，阿斯麥的凈銷售額才約為47.3億歐元。
05
長盛不衰的秘訣：大力搞研發(fā)的傳統(tǒng)
在科技圈，研發(fā)、創(chuàng)新能力就是生命力。華為5G、芯片技術(shù)為什么強(qiáng)？任正非曾在接受采訪時表示，2020年華為將把約200億美元（約合人民幣1420億元）花在研發(fā)上。而在研發(fā)方面，阿斯麥與華為一樣“瘋狂”。
早在2002年，阿斯麥就敢向浸沒式光刻技術(shù)押注。到了今天，大力投資搞技術(shù)研發(fā)已經(jīng)成為阿斯麥的傳統(tǒng)。
根據(jù)2019年度財(cái)報(bào)，阿斯麥全年投入了20億歐元用于技術(shù)研發(fā)，占到凈銷售額（118.2億歐元）的16.9%。相比之下，2019年尼康在光刻系統(tǒng)上的投資為3.98億日元，占到光刻系統(tǒng)營收（2397.28億日元）的約0.17%。
2007年開始，“時年”13歲的阿斯麥開始以領(lǐng)先的姿態(tài)傲然于光刻機(jī)市場，至今仍然如此。列出阿斯麥近些年的研發(fā)投入，或能解釋它這么多年來屹立不倒的原因。
另外，在專利網(wǎng)站Patentscope上的搜索結(jié)果顯示，阿斯麥申請的專利數(shù)目已經(jīng)達(dá)到14444項(xiàng)。阿斯麥雖然是一家商業(yè)公司，但支撐它走得更遠(yuǎn)的，不是對金錢的追求，而是對技術(shù)的長遠(yuǎn)投資。
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結(jié)語：36年成就光刻機(jī)傳奇
回顧過去36年，阿斯麥從一個蜷縮在木板房中的小公司成長為一代光刻機(jī)巨擘，其中原因少不了歷史的機(jī)遇，如林本堅(jiān)適時提出了浸沒式光刻技術(shù)的想法。但是，更具決定性意義的是阿斯麥準(zhǔn)確的前瞻和果斷的選擇，比如，在21世紀(jì)初，阿斯麥放棄干式微影，轉(zhuǎn)投浸沒式光刻技術(shù)；再比如，早在1997年，阿斯麥以自身妥協(xié)換來EUV LLC的入場券。對于商業(yè)與技術(shù)相互促進(jìn)的關(guān)系，阿斯麥還有著深刻的理解，多年來對技術(shù)研發(fā)的大力投入，成為它屹立不倒的重要原因。手握頂尖的技術(shù)，阿斯麥還獲得了客戶的支持，從而在全球光刻機(jī)市場中走得更遠(yuǎn)。
以阿斯麥這36年的歷程為鑒，對比我國。1977年，我國第一臺光刻機(jī)誕生，加工晶片直徑為75毫米。今天，國產(chǎn)光刻機(jī)制造商有上海微電子、中科院光電所等，最先進(jìn)的設(shè)備推進(jìn)至22nm節(jié)點(diǎn)，而國際最先進(jìn)工藝已突破5nm節(jié)點(diǎn)。國產(chǎn)光刻機(jī)無疑還有很長的路要走。
芯片是“中國制造”的痛點(diǎn)。不論是近期華為被美國斷供芯片的新聞，還是兩會政府工作報(bào)告中“國產(chǎn)化”“功率半導(dǎo)體”“傳感器芯片”等話題被一再提及，背后的事實(shí)都讓人黯然：我們曾在一窮二白的條件下造出原子彈，但在GDP總量近100萬億美元的今天，中國還是難以獨(dú)立造“芯”。在種種困難中，光刻技術(shù)直接卡住了芯片制造的“脖子”。
要解決這一問題，技術(shù)攻關(guān)當(dāng)然是必不可少的。另外，借力國外成熟產(chǎn)品或可幫助芯片制造商實(shí)現(xiàn)突破。2018年，我國芯片公司中芯國際花費(fèi)約1.2億美元，向阿斯麥訂購了一臺EUV光刻機(jī)。由于種種原因，目前，這臺光刻機(jī)還未成功交付。我們期待它能夠盡快落地中國，助力我國的芯片事業(yè)再上一個臺階。中國有市場、有人才，也不缺恒心與毅力，相信我國光刻機(jī)事業(yè)會有光明的未來。
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參考文獻(xiàn)：
1、《曾經(jīng)的光刻機(jī)霸主：尼康營收暴減九成，裁員 700 人》EE Times China
2、《全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭專題（一）》安信證券
3、《阿斯麥封神記：這家荷蘭公司，扼住了全球半導(dǎo)體芯片的咽喉》魔鐵的世界
4、《光刻機(jī)的發(fā)展與荷蘭ASML公司的故事》光纖在線
5、《做成那不可能之夢：低調(diào)華人科學(xué)家顛覆技術(shù) 影響人類》知識分子
6、《More Moore” Shows European EUV Innovation at EUV 2006 in Barcelona》CORDIS
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